在超純水的制取過程中，通過對進入EDI超純水設(shè)備的EDI模塊進行進行預(yù)處理后，常規(guī)情況下，EDI模塊存在發(fā)生污堵的頻率會降低。但是，雖然EDI模塊的進水條件在很大程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機會，但隨著超純水設(shè)備運行時間的延展，EDI模塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI模塊進行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

    純水設(shè)備認(rèn)為通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：

    1、在進水溫度、流量不變的情況下，進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

    2、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

    3、在進水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

    4、在進水、流量不變的情況下，濃水排水流量下降55%。

    反滲透純水設(shè)備認(rèn)為當(dāng)遇到以上情況時，要分析EDI模塊被污堵的原因以及及時確定化學(xué)清洗方案和EDI模塊再生方法，及時進行EDI模塊的清洗和再生，盡量避免對生產(chǎn)運行造成的影響。