電子工業(yè)水處理系統(tǒng)案例分析：

    參數(shù)要求：

    1、設(shè)備產(chǎn)水規(guī)模： 系統(tǒng)總進水12m3/h

    反滲透出水≥6m3/h

    EDI出水6m3/h

    2、出水水質(zhì)：

    2.1反滲透部分：

    回收率：75%（一級反滲透）；80-85%（二級反滲透）

    脫鹽率：98%（一年內(nèi)）

    2.2 EDI部分：

    電阻率：≥16 MΩ.cm

    回收率：90-95%

    3、控制水平：系統(tǒng)實現(xiàn)全自動運行，要求通過可編程控制器（PLC）實現(xiàn)。

    方案設(shè)計：

    根據(jù)電子工業(yè)客戶用水要求，整套設(shè)備運行時是一體化的操作。設(shè)備主要有三部分組成：多介質(zhì)過濾器、兩級反滲透（純水設(shè)備）、EDI設(shè)備（超純水設(shè)備）。在該水處理工藝中，考慮到原水的變化性，在反滲透設(shè)備中添加阻垢劑加藥裝置和PH控制裝置，以利于設(shè)備的運行。

    在水處理設(shè)備的長期運行中，不可避免的會有部分污染物存在膜元件表面造成設(shè)備污染，該設(shè)備設(shè)置一套清洗裝置，用于對兩級反滲透系統(tǒng)和EDI設(shè)備進行藥洗清洗，以迅速恢復(fù)性能，即可保證生產(chǎn)用水的需要，又可延長設(shè)備的使用壽命。

    設(shè)備采用自動與手動的控制操作，過濾器的反洗操作采用手動操作，設(shè)備運行采用PLC集中控制，通過水箱的液位高低操作自動控制反滲透純水設(shè)備和EDI超純水設(shè)備的起停。

    整套水處理設(shè)備主要包含預(yù)處理裝置，兩級反滲透脫鹽裝置，EDI裝置等精處理脫鹽裝置以及相關(guān)清洗裝置等相關(guān)配件。